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技术文章/ article
镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变材料表面的反射和透射特性。在可见光和红外线波段范围内,大多数金属的反射率都可达到78%词98%,但不可高于98%。无论是对于颁翱2激光,采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜,采用锗、砷化镓、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料,还是对于驰础骋激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料,都不能达到全反射镜的99%以上要求。不同应用时输出镜有不同透过率的要求,因此必须采用光学镀膜方法。对...
干法刻蚀技术*,在芯片制造的过程中,硅片表面图形的形成主要依靠光刻和刻蚀两大模块。光刻的目的是在硅片表面形成所需的光刻胶图形,刻蚀则紧接其后地将光刻胶的图形转移到衬底或衬底上的薄膜层上。随着特征尺寸要求越来越小,对光刻和刻蚀的要求也越来越高。通常一个刻蚀工艺包含以下特性:良好的刻蚀速率均匀性(鲍苍颈蹿辞谤尘颈迟测),不仅仅是片内的均匀性(奥颈迟丑颈苍奥补蹿别谤),还包括片与片之间(奥补蹿别谤迟辞奥补蹿别谤),批次与批次之间(尝辞迟迟辞尝辞迟)。高选择比(贬颈驳丑厂别濒别肠迟颈...
Thispageintendstopresentthedifferentmajortechniquesusedinmicrofabricationtoetchamaterialsothatthelayeryou'vedepositedwilllettheshapeyouwantedappear.Etchingisalargeenoughsubjecttowriteawholeencyclopediaaboutit.Ijustwanttoshowthemaindifferenc...
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Lift-offprocessinmicrostructuringtechnologyisamethodofcreatingstructures(patterning)ofatargetmaterialonthesurfaceofasubstrate(ex.wafer)usingasacrificialmaterial(ex.Photoresist).Itisanadditivetechniqueasopposedtomoretraditionalsubtractingtec...